二次谐波表征方法、基于其的表征光学系统及检测装置
公开
摘要
本发明提供了一种二次谐波表征方法、基于其的表征光学系统及检测装置，该二次谐波表征方法在待检测样品表面选取扫描点位之后，通过调谐基频光的波长从第一设定波长连续调谐至第二设定波长，且在每次调谐基频光的波长之后，均向扫描点位入射波长调谐后的基频光，并收集根据波长调谐后的基频光产生的二次谐波信号；然后根据收集的二次谐波信号，绘制二次谐波信号非线性光谱。通过二次谐波信号非线性光谱，能够得出该扫描点位在此扫描过程中的不同缺陷类型、不同缺陷类型的缺陷能级、以及不同缺陷类型所对应的基频光波长。并利用二次谐波对较低缺陷密度进行有效表征，且能够有针对性的提取待检测样品的相关参数，缩短提取器件相关参数耗时。
基本信息
专利标题 ：
二次谐波表征方法、基于其的表征光学系统及检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114577726A
申请号 ：
CN202210249154.9
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王然李博王磊张喆张昆鹏赵泓达岳嵩张学文张紫辰
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
北京兰亭信通知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵永刚
优先权 ：
CN202210249154.9
主分类号 ：
G01N21/01
IPC分类号 ：
G01N21/01 G01N21/88 G01N21/95
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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