二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置
公开
摘要

本发明提供了一种二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置,该二次谐波表征光学系统通过使起偏器和检偏器均定轴旋转,分别驱动起偏器和检偏器进行多次旋转,在每次旋转过程中,起偏器被旋转到Ai位置以改变基频光的偏振态的同时,检偏器被旋转到与Ai位置对应的Bi位置,使依赖于Ai位置起偏器形成的基频光,经待检测样品产生的二次谐波信号能够收集于探测器内,获得Ai位置起偏器对应偏振依赖的二次谐波信号。在检测待检测样品的晶型和晶向时,可以通过多次旋转起偏器的过程中使检偏器配合联动,获取偏振依赖的二次谐波信号的周期,利用偏振依赖的二次谐波信号直接判断待检测样品的晶向和晶型,简化设备结构,降低成本。

基本信息
专利标题 :
二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114577728A
申请号 :
CN202210249176.5
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2022-03-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王然王磊李博张学文赵泓达张昆鹏张喆岳嵩张紫辰
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京兰亭信通知识产权代理有限公司
代理人 :
赵永刚
优先权 :
CN202210249176.5
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/88  G01N21/95  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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