二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置
公开
摘要
本发明提供了一种二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置，该二次谐波表征光学系统通过增加Z向随动模块和Z向测高模块，由Z向测高模块获取待检测样品表面不同位置处的高度信息；在XY面运动模块带动待检测样品在XY面扫描的过程中，Z向随动模块根据待检测样品表面不同位置处的高度信息，Z向调节样品台，以使基频光始终聚焦在待检测样品表面。从而克服由于待检测样品表面由于微观上呈凸凹不平的波动曲面，而导致的基频光不能始终聚焦在待检测样品表面的现象；提高SHG出射信号所携带的缺陷信息的准确性，从而提高基于二次谐波表征方法对待检测样品检测的表征精度。
基本信息
专利标题 ：
二次谐波表征光学系统和基于二次谐波表征的检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114577725A
申请号 ：
CN202210249114.4
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王然张昆鹏张喆赵泓达岳嵩王磊张学文李博张紫辰
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
北京兰亭信通知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵永刚
优先权 ：
CN202210249114.4
主分类号 ：
G01N21/01
IPC分类号 ：
G01N21/01 G01N21/88 G01N21/95
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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