一种投影物镜的畸变测量装置及方法
公开
摘要
本申请实施例提供的一种投影物镜的畸变测量装置及方法，畸变测量装置包括：控制器、第一光源设备、针孔掩模板、可移动工作台、波前分析仪和干涉仪设备；第一光源设备和可移动工作台之间间隔设置有针孔掩模板；干涉仪设备产生的激光光束投射在可移动工作台上；控制器分别与第一光源设备、可移动工作台、波前分析仪和干涉仪设备分别连接，用于控制第一光源设备和可移动工作台在水平和/或垂直方向移动；控制器根据获取到的各针孔的物点坐标、第一像点坐标、第二像点坐标、光线能量值以及光线偏离斜率，确定待测投影物镜的畸变以及实际倍率。通过引入针孔掩模板进行投影物镜的畸变以及倍率的测量，简化了测试过程和测试装置，从而提高了测试效率。
基本信息
专利标题 ：
一种投影物镜的畸变测量装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594660A
申请号 ：
CN202210252976.2
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宁金娜宫晨孙明睿
申请人 ：
北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区泰河三街1号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
刘凤
优先权 ：
CN202210252976.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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