基于移相条纹投影的位相-高度关系校准方法
公开
摘要
本发明公开了一种基于移相条纹投影的位相‑高度关系校准方法，包括：确定校准体和参考平面；将投影仪和CCD相机组装构成测量头，并相对于参考平面固定放置；分别利用三步相移法计算参考平面的相移条纹图和校准体的相移条纹图；将参考平面的相移条纹图和校准体的相移条纹图计算所得的位相相减，得到标准体相对于参考平面的位相变化；在位相变化中任取两行数据，根据该两行数据相应校准体表面高度，计算出位相‑高度关系系数。本发明只需一次测量、计算过程便可以获得整个测量范围内的位相‑高度关系系数，具有快速和易于使用的特点。
基本信息
专利标题 ：
基于移相条纹投影的位相-高度关系校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114608480A
申请号 ：
CN202210259918.2
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
袁自钧赵世良刘福峡肖俊峰
申请人 ：
合肥因赛途科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区玉兰大道767号中科大国祯大厦501B10
代理机构 ：
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李冉
优先权 ：
CN202210259918.2
主分类号 ：
G01B11/25
IPC分类号 ：
G01B11/25 G01B11/00 G01B11/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形，例如莫尔条纹
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
