一种铱配合物衍生物、制备方法及其应用
公开
摘要
本发明涉及光刻胶技术领域，涉及一种铱配合物衍生物、制备方法及其应用。本发明借助香豆素衍生物高摩尔吸收系数的性质，引入金属重原子铱原子加强其分子内的系间窜越，通过激发三重态，进而引发与共引发剂有效的发生电子转移，改变了光刻胶的敏感波长，并提高了光酸的产率，改善光刻胶组合物中的光敏性，进一步增强光刻胶的灵敏度、单体的交联能力、光刻胶的线宽粗糙度、分辨率、成膜能力。
基本信息
专利标题 ：
一种铱配合物衍生物、制备方法及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114573641A
申请号 ：
CN202210263819.1
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵建章温宇东霍延平籍少敏
申请人 ：
大连理工大学
申请人地址 ：
辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
代理机构 ：
大连理工大学专利中心
代理人 ：
温福雪
优先权 ：
CN202210263819.1
主分类号 ：
C07F15/00
IPC分类号 ：
C07F15/00 G03F7/004 G03F7/027
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F15/00
含周期表第8、9、10或18族元素的化合物
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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