一种防碰撞控制方法
公开
摘要
本发明涉及半导体加工设备技术领域，其目的是提供一种防碰撞控制方法，监测扫描配方安全性时可靠性强、准确性高。上述的防碰撞控制方法包括：获取t0+i×Δt时刻第一运动件预计位置SAi和第二运动件预计位置SBi；并计算二者之间的距离Q；若距离Q小于或等于碰撞距离ΔQ，则对两者运动方向进行判断，若两者为相向运动则t0+i×Δt时刻两者可能会碰撞，需进行避让，若两者不是相向运动则说明t0+i×Δt时刻两者不会碰撞；若距离Q大于碰撞距离ΔQ，则说明两者不会碰撞，并按上述步骤对总执行时间T内每过Δt时刻两者是否碰撞进行判断。本发明解决了现有人为监测扫描配方安全性的方法可靠性差且易损坏设备的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种防碰撞控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114589615A
申请号 ：
CN202210322608.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴燕林周庆亚李嘉浪张康刘福强
申请人 ：
北京烁科精微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
穆瑞丹
优先权 ：
CN202210322608.0
主分类号 ：
B24B37/00
IPC分类号 ：
B24B37/00 B24B37/005 B24B55/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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