一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统
公开
摘要
本申请提供了一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统，所述控制方法包括：获取参与扫描的各个子系统执行器的扫描时间区间；根据获取到的多个扫描时间区间之间的时间交叉关系，确定扫描时间值，并根据扫描时间值，确定出准备时间值；根据扫描时间值以及准备时间值，同时向各个子系统执行器下发扫描控制指令，控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描。采用本申请提供的技术方案能够通过获取扫描时间区间与准备时间区间，确定出扫描时间值，以及准备时间值，并通过扫描时间值时间与准备时间值控制多个子系统执行器对待曝光晶圆进行同步扫描，从而在保障曝光图像质量的同时提高晶圆曝光的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种执行器同步扫描的控制方法、上位机以及控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624965A
申请号 ：
CN202210327161.6
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
牛岩付纯鹤苏鹏方杜婷婷徐圆圆
申请人 ：
北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区泰河三街1号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
于彬
优先权 ：
CN202210327161.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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