等离子体纳米抛光液及铸造铝合金工件的抛光方法
公开
摘要
本发明提供了一种等离子体纳米抛光液及铸造铝合金工件的抛光方法。等离子体纳米抛光液包括溶剂水，以所述溶剂水的质量百分比计，还包括3~5%的乙酸甲、1~2%的亚硝酸钠以及0.1~0.3%的负离子聚丙烯酰胺。本发明的等离子体纳米抛光液通过设置其组分，可在不改变金属工件的表面金属本色的情况下，方便快捷的完成对金属工件的抛光，提升金属工件的表面光泽度。同时通过使用本发明的等离子体纳米抛光液进行铸造铝合金工件的抛光，并通过设置抛光过程的抛光参数，可高效率的降低铸造铝合金工件的表面粗糙度，且可保留铸造铝合金工件的金属本色。
基本信息
专利标题 ：
等离子体纳米抛光液及铸造铝合金工件的抛光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114606498A
申请号 ：
CN202210511413.0
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-05-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王季于成泽田小青刘越盟蒋晨宇朱志坤
申请人 ：
中唯精密工业有限公司
申请人地址 ：
天津市东丽区华明街道华明低碳产业园A3座401
代理机构 ：
北京创赋致远知识产权代理有限公司
代理人 ：
邱晓宁
优先权 ：
CN202210511413.0
主分类号 ：
C23F3/03
IPC分类号 ：
C23F3/03 C23F4/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F3/00
金属的化学法光亮处理
C23F3/02
轻金属
C23F3/03
用酸性溶液的
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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