超表面光学器件及光学设备
授权
摘要
提供一种超表面光学器件及光学设备。超表面光学器件包括：衬底；以及位于衬底上的纳米结构层，纳米结构层包括多个复合纳米单元，每个复合纳米单元包括在衬底上排列的多个纳米结构单元，其中，多个复合纳米单元的排列周期不完全相同，并且其中，在每个复合纳米单元中，多个纳米结构单元的排列周期不完全相同。本公开实施例技术方案可以改善超表面光学器件的光学性能。
基本信息
专利标题 ：
超表面光学器件及光学设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220088637.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-13
授权号 ：
CN216696740U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
孙磊邱兵
申请人 ：
天津山河光电科技有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区天津经济技术开发区滨海-中关村科技园华塘睿城一区3号楼二层B区015号
代理机构 ：
北京市汉坤律师事务所
代理人 ：
魏小薇
优先权 ：
CN202220088637.0
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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