超表面光学器件、光学设备及制作超表面光学器件的方法
实质审查的生效
摘要
提供一种超表面光学器件、光学设备及制作超表面光学器件的方法。超表面光学器件包括：衬底；纳米结构层，位于衬底的一侧并且包括多个第一纳米结构单元；以及，至少一个色差调整层，每个色差调整层与衬底的材料不同并且具有阶梯状结构。本公开实施例技术方案可以调整超表面光学器件的色差，从而改善超表面光学器件的光学性能。
基本信息
专利标题 ：
超表面光学器件、光学设备及制作超表面光学器件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114325885A
申请号 ：
CN202210098888.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邱兵孙磊杨新征
申请人 ：
天津山河光电科技有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区天津经济技术开发区滨海-中关村科技园华塘睿城一区3号楼二层B区015号
代理机构 ：
北京市汉坤律师事务所
代理人 ：
魏小薇
优先权 ：
CN202210098888.1
主分类号 ：
G02B1/00
IPC分类号 ：
G02B1/00 G02B6/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/00
申请日 : 20220124
申请日 : 20220124
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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