一种宽光谱离轴四反式光学系统
授权
摘要
本实用新型的目的是解决现有二反射、三反射和四反射光学系统存在自由度较低，难以解决高成像质量与小型化之间矛盾的技术问题。该宽光谱离轴四反式光学系统，包括四反式光学机构，四反式光学机构包括沿光束传播方向依次设置的第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜和焦平面；第一反射镜将入射光束反射后以离轴的方式入射至第二反射镜，第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜对入射光束依次进行反射，第四反射镜将反射光束汇聚至焦平面。优化了其光学系统的自由度，同时减小了宽光谱离轴四反式光学系统的体积，并提高了成像质量。
基本信息
专利标题 ：
一种宽光谱离轴四反式光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220108195.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-14
授权号 ：
CN216670382U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
刘伟冯联华蔡占恩陈继铭闫福文
申请人 ：
西安中科立德红外科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区毕原二路3000号硬科技企业社区8幢
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
王少文
优先权 ：
CN202220108195.1
主分类号 ：
G02B17/06
IPC分类号 ：
G02B17/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/02
反射光系统，例如，影像竖立和倒向系统
G02B17/06
只用反射镜的
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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