隔振基座（晶片研磨机）
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：隔振基座（晶片研磨机）。2.本外观设计产品的用途：用于晶片研磨机的隔振安装固定。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
基本信息
专利标题 ：
隔振基座（晶片研磨机）
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202230028204.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
CN307302485S
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
何成伟
申请人 ：
协伟集成电路设备（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市松江科技园区港业路50号4栋
代理机构 ：
上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
何葆芳
优先权 ：
CN202230028204.1
主分类号 ：
15-09
IPC分类号 ：
15-09
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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