抛光装置
驳回申请决定
摘要
在一台抛光装置中，一条抛光带紧压住要抛光的工件的工作位置。这种抛光装置包括：从上述抛光带的一部份，清洗液对着运行的抛光带，通过液体的压力除去附在抛光带的磨粒粉末；一个吸取清洗液的工具放置在与清洗液喷射工具相反的位置以使它适合吸取和回收使用过的清洗液，该清洗液是从液体喷射工具喷射到抛光带上。
基本信息
专利标题 ：
抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85102892A
申请号 ：
CN85102892
公开（公告）日 ：
1987-01-21
申请日 ：
1985-04-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安藤敏夫
申请人 ：
株式会社名南制作所
申请人地址 ：
日本爱知县大府市梶田町三丁目130番地
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
石小梅
优先权 ：
CN85102892
主分类号 ：
B24B21/00
IPC分类号 ：
B24B21/00 B24B55/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B21/00
使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件
法律状态
1989-08-16 ：
驳回申请决定
1987-01-21 ：
公开
1986-01-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
