液相电子轰击质谱法及其组合离子源
被视为撤回的申请
摘要
液相电子轰击质谱法及由它设计的液相电子轰击/快原子轰击组合离子源。本发明涉及仪器零部件领域。其特征是将待分析的样品溶解在底物中，不必加热样品，由能量约70ev电子束直接轰击底物，便可获得类似气相中电子轰击的质谱图。由于分析过程中不必加热离子源和样品，因而减少了本底的严重干扰，使它可方便地与快原子轰击结合起来。在一套装置内用一支进样杆，不必破坏真空，由电开关转换，进行电子轰击或快原子轰击。
基本信息
专利标题 ：
液相电子轰击质谱法及其组合离子源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85107273A
申请号 ：
CN85107273
公开（公告）日 ：
1987-04-15
申请日 ：
1985-10-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄庆文唐恢同吴光路柴文刚曹绮蓁
申请人 ：
中国科学院科学仪器厂
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村
代理机构 ：
中国科学院专利事务所
代理人 ：
关玲
优先权 ：
CN85107273
主分类号 ：
G01N23/22
IPC分类号 ：
G01N23/22 H01J49/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
法律状态
1988-07-06 ：
被视为撤回的申请
1987-04-15 ：
公开
1987-02-11 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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