对短波长光化射线敏感的负型光敏组成物
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
提出了经挑选的受远紫外线或X射线激活并能在光敏组成物中以很低浓度使用的光敏化合物，它们可用在表面产生出水中可显影的热稳定负像。这些挑选出的光敏化合物，是卤代有机化合物，包括1，1-双[对一氯苯基]-2，2，2-三氯乙烷，这些化合物在受到远紫外线或其它短波长射线的作用时，产生出无机氢卤酸。它们可以在浓度低于光敏组成物中总固体含量5％(重量)时使用，通过远紫外线照射产生出可在水溶液中显影的负像。
基本信息
专利标题 ：
对短波长光化射线敏感的负型光敏组成物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87100185A
申请号 ：
CN87100185.3
公开（公告）日 ：
1987-09-23
申请日 ：
1987-01-13
授权号 ：
CN1036489C
授权日 ：
1997-11-19
发明人 ：
威尼·埃德蒙德·费利
申请人 ：
罗姆和哈斯公司
申请人地址 ：
美国·宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
全菁
优先权 ：
CN87100185.3
主分类号 ：
G03C1/72
IPC分类号 ：
G03C1/72 G03C1/73
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03C
照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色、或者立体照相过程；照相的辅助过程
G03C1/00
感光材料
G03C1/72
未列入G03C1/005至G03C1/705组的感光剂
法律状态
2007-03-14 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-03-20 ：
其他有关事项
1997-11-19 ：
授权
1989-07-19 ：
实质审查请求
1987-09-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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