感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射...
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，含有(A)酸分解性树脂、(B)由通式(b1)表示的化合物、及(C)由通式(c1)表示的化合物，化合物(C)的含量相对于化合物(B)的含量的比例为0.01质量％以上且10质量％以下。L表示单键或2价的连接基团。A表示通过酸的作用分解的基团。B表示通过酸的作用分解的基团、羟基或羧基。其中，至少1个B表示羟基或羧基。n表示1～5的整数。X表示n+1价的连接基团。M+表示锍离子或碘鎓离子。
基本信息
专利标题 ：
感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450631A
申请号 ：
CN202080067976.4
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三好太朗米久田康智福崎英治高桥年哉
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
薛海蛟
优先权 ：
CN202080067976.4
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/039 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20200914
申请日 : 20200914
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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