感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法及电子器件的...
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种经过滤器过滤的感放射线性树脂组合物的批次间的性能偏差得到抑制的感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感放射线性树脂组合物的制造方法包括：工序1，使包含第1有机溶剂的第1溶液与第1过滤器接触以清洗第1过滤器；及工序2，使用在工序1中清洗的第1过滤器过滤感放射线性树脂组合物。
基本信息
专利标题 ：
感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514471A
申请号 ：
CN202080070628.2
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中匠坂内隆江副博之岩谷彰一郎本山宽大原田宪一
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
薛海蛟
优先权 ：
CN202080070628.2
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038 G03F7/039 G03F7/26 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/038
申请日 : 20200917
申请日 : 20200917
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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