感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方...
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
基本信息
专利标题 ：
感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物、树脂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114375421A
申请号 ：
CN202080060142.0
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高田晓后藤研由小岛雅史牛山爱菜白川三千纮加藤启太冈宏哲藤田光宏白石康晴
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
薛海蛟
优先权 ：
CN202080060142.0
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20200729
申请日 : 20200729
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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