感光化射线性或放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜...
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。
基本信息
专利标题 ：
感光化射线性或放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270264A
申请号 ：
CN202080058597.9
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小岛雅史牛山爱菜后藤研由白川三千纮加藤启太丸茂和博冈宏哲
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
薛海蛟
优先权 ：
CN202080058597.9
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 G03F7/038 G03F7/004 G03F7/09 G03F7/00 C07C311/51 C07C309/06 C07C309/17 C07C309/12 C07C311/14 C07C311/48 C07C381/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/039
申请日 : 20200728
申请日 : 20200728
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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