一种用于痕量元素测定的单波长X射线装置

授权

摘要

本申请涉及X射线荧光分析的领域，尤其是涉及一种用于痕量元素测定的单波长X射线装置及设计方法。一种用于痕量元素测定的单波长X射线装置，包括箱体、位于箱体内的X射线发生元件、X射线衍射聚焦元件，所述X射线衍射聚焦元件包括双曲面弯晶，所述箱体的上方成型有通孔，X射线发生元件发射的X射线经X射线衍射聚焦元件衍射后聚焦在通孔。通过在箱体上设置通孔后，将样品放置在通孔位置。X射线发生元件发射的X射线经过双曲面弯晶后衍射后，单波长X射线聚焦在通孔位置，照射在样品上。由于减少了连续谱干扰，降低了背景干扰，能够提高痕量元素检出精度。

基本信息

专利标题：

一种用于痕量元素测定的单波长X射线装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022007356.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-14

授权号：

CN212568554U

授权日：

2021-02-19

发明人：

程大伟刘明博岳元博廖学亮

申请人：

钢研纳克检测技术股份有限公司

申请人地址：

北京市海淀区高梁桥斜街13号

代理机构：

北京维正专利代理有限公司

代理人：

侯巍巍

优先权：

CN202022007356.1

主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

G01N23/223