一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置，其包括机体，所述机体的一侧开设有用以熔样的熔样室，所述熔样室底壁上设置若干放置台，所述放置台内部开设有放置槽，所述放置槽内放置有用以熔样的坩埚，且所述放置槽内设置有用以对坩埚进行加热高频加热线圈，所述机体上设置有用以带走熔样室热量的换热器，所述换热器内流通有制冷剂。本实用新型的优点是：可提高坩埚的冷却速率，进而提升制样效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020382176.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-23
授权号 ：
CN211785233U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
尹戈王清乐唐开尧罗莹曾明龙
申请人 ：
重庆地之源地质工程检测有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区含谷镇谷西街7#7-1-7#
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020382176.9
主分类号 ：
G01N23/2202
IPC分类号 ：
G01N23/2202 G01N23/223 G01N1/44 G01N1/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/2202
样品制备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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