高反差高温栅的制造工艺与应用技术
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种高反差高温栅的制造工艺及应用技术，其具体方法是在试件表面用光刻胶光刻法制成胶栅，再用电刷镀法镀上栅线金属，当要测量材料高温时的内部应变时，可将试件部分，在剖分面上制成金属栅线，然后在栅线表面涂以防护涂料，再将试件合成一体，并沿其周边用熔焊法焊合，然后进行高温力学试验。试验后再将试件在焊合处剖开，即可在剖分的表面看到云纹图。为增加云纹图的反差，以便于观察及拍摄云纹图，可将云纹图进行表面着色处理。20#钢，镍栅线的表面着色处理可用一般发黑技术。
基本信息
专利标题 ：
高反差高温栅的制造工艺与应用技术
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1043205A
申请号 ：
CN89109318.4
公开（公告）日 ：
1990-06-20
申请日 ：
1989-12-21
授权号 ：
CN1018771B
授权日 ：
1992-10-21
发明人 ：
张志强金宁马喜腾曹起骧
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园
代理机构 ：
清华大学专利事务所
代理人 ：
章瑞溥
优先权 ：
CN89109318.4
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G01L1/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
1997-02-05 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-06-16 ：
授权
1992-10-21 ：
审定
1990-06-20 ：
公开
1990-06-20 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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