对细长物体涂层厚度的测量与控制
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种被覆光纤制造法，包括对光纤淀积导电涂层和测量涂层电导值，其中主要是测定所述涂层(如碳层)厚度，该测量包括下列步骤：借输入信号形成电磁场；令被覆光纤通过经激励的电磁场；令所述导电涂层相对于电场这样取向，以使其相互作用增大从输入至输出端的传输损耗；根据取自电磁场的输出信号相对于基准信号的变化，测定导电涂层的电导和厚度；根据该测值产生用于动态控制淀积工艺参数的信号。本法优点是被覆光纤不接触制造设备，且无须中断生产过程。
基本信息
专利标题 ：
对细长物体涂层厚度的测量与控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1049190A
申请号 ：
CN90106614.1
公开（公告）日 ：
1991-02-13
申请日 ：
1990-07-30
授权号 ：
CN1029324C
授权日 ：
1995-07-12
发明人 ：
罗伯特·M·阿特金斯乔治·E·彼得森雷蒙·D·图明纳罗
申请人 ：
美国电话及电报公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴增勇
优先权 ：
CN90106614.1
主分类号 ：
C23C16/52
IPC分类号 ：
C23C16/52 C23C16/26 C23C16/54 C03C25/02 G01B7/06 G05B11/06
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/52
镀覆工艺的控制或调整
法律状态
2004-09-29 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 ：
其他有关事项
1995-07-12 ：
授权
1992-11-11 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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