溅射磁光记录用多层膜的改进工艺方法
专利申请的视为撤回
摘要
一种制造由交替的铂和钴层组成的铂/钴(Pt/Co)多层膜的改进溅射工艺方法，所说的改进包括用氪、氙或其混合物作为溅射气体。
基本信息
专利标题 ：
溅射磁光记录用多层膜的改进工艺方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1054450A
申请号 ：
CN90109852.3
公开（公告）日 ：
1991-09-11
申请日 ：
1990-11-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
彼得·弗朗西斯·卡西亚
申请人 ：
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
黄家伟
优先权 ：
CN90109852.3
主分类号 ：
C23C14/14
IPC分类号 ：
C23C14/14 C23C14/34 G11B11/10 G11B13/04 G11B7/26 G11B5/84
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
法律状态
1993-08-18 ：
专利申请的视为撤回
1991-09-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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