一种用于研究或改变在真空或保护气体中的样品表面的装置
专利申请的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于研究放置在真空或在保护气体中的样品表面的装置。其结构包括一个主工作室，在该室中置有一个用于安装至少一个称为SXM部件的支承平板，该部件是借助于电或光导探针，利用对样品表面扫描来进行样品表面的显微检查，光谱分析或蚀刻。所述装置特征在于，支承平板能够从工作室中卸下，并且围绕中轴自行旋转，使得允许使用装在所述平板周边上的一套SXM部件。它应用于扫描隧道显微检查和/或光谱分析或利用光和/或电子微刻处理。
基本信息
专利标题 ：
一种用于研究或改变在真空或保护气体中的样品表面的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1057363A
申请号 ：
CN91103772.1
公开（公告）日 ：
1991-12-25
申请日 ：
1991-05-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
古道内·让-彼埃尔拉克鲁特·伊冯
申请人 ：
斯皮拉尔研究发展公司
申请人地址 ：
法国库泰尔诺恩
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
乔晓东
优先权 ：
CN91103772.1
主分类号 ：
H01J37/20
IPC分类号 ：
H01J37/20 H01J37/26 G01J3/00 G01B9/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/20
物体或材料的支承或定位装置；与支架相联的光阑或透镜的调整装置
法律状态
1994-02-02 ：
专利申请的视为撤回
1991-12-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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