类金刚石薄膜作光学增透膜的新应用
专利申请的视为撤回
摘要
类金刚石薄膜以高频等离子体气相淀积法，涂覆于硅太阳能与红外探测器上，具有增透膜的用途。本发明解决了该类光电器件原有增透膜的光电转换率及光透性差问题，特别是应用于硅太阳能电池上，已使其光谱响应明显提高；短路电流增加率达37.9％，也已接近40％理论值；于600～700nm波长内量子效率近于1。用于红外探测器特别是碲镉汞材料所制器件，既解决了8～14μm光增透材料，而且使透射率平均提高16％。
基本信息
专利标题 ：
类金刚石薄膜作光学增透膜的新应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1076552A
申请号 ：
CN92108354.8
公开（公告）日 ：
1993-09-22
申请日 ：
1992-03-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
夏义本安其霖居建华史伟民王鸿
申请人 ：
上海科学技术大学
申请人地址 ：
201800上海市嘉定县南门城中路20号
代理机构 ：
上海高校专利事务所
代理人 ：
张建成
优先权 ：
CN92108354.8
主分类号 ：
H01L31/0216
IPC分类号 ：
H01L31/0216 H01L31/0232 H01L31/18 C23C16/26 C23C16/50
法律状态
1995-06-28 ：
专利申请的视为撤回
1993-09-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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