激光脉冲检测用光电发射薄膜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明公开了一种光电发射薄膜的制备方法与应用，属于半导体器件领域。此种薄膜含有银、钡、氧三种元素，用真空系统中通电加热蒸发钡源和银源，使其沉积并激活的方法制备。此种薄膜可存放于大气能在真空仪器中恢复光电发射而无需重新激活，并可以在较高温度环境下工作，具有较高灵敏度。它可以作为光电发射薄膜材料，用于皮秒级激光脉冲检测及高亮度阴极，还可用于变相管等。
基本信息
专利标题 ：
激光脉冲检测用光电发射薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1086927A
申请号 ：
CN92112947.5
公开（公告）日 ：
1994-05-18
申请日 ：
1992-11-13
授权号 ：
CN1030417C
授权日 ：
1995-11-29
发明人 ：
吴全德刘惟敏董引吾吴锦雷石自光薛增泉
申请人 ：
中国科学院北京真空物理实验室;北京大学
申请人地址 ：
100871北京市海淀区中关村2724信箱
代理机构 ：
中科专利代理有限责任公司
代理人 ：
关玲
优先权 ：
CN92112947.5
主分类号 ：
H01J40/06
IPC分类号 ：
H01J40/06 C23C14/00 G01J11/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J40/00
不包含气体电离的放电管
H01J40/02
零部件
H01J40/04
电极
H01J40/06
光电发射阴极
法律状态
1996-12-25 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1995-11-29 ：
授权
1994-10-19 ：
实质审查请求的生效
1994-06-08 ：
实质审查请求的生效
1994-05-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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