用于扩散法制图的方法及组合物
专利权的终止
摘要
本发明涉及用作制图案有机层的方法，它包括下列步骤$Ａ．向基底上施加一层固体酸不稳定聚合物的非制图层；$Ｂ．向非制图层基上施加一层包括有机酸的液体溶液及挥发溶剂的制图案第二层；$Ｃ．加热制图层从而从层中除去挥发溶剂并让有机酸扩散至下面第一层中；$Ｄ．用碱水溶液洗涤各层以便从各层的制图区域中除去溶解了的酸不稳定聚合物。
基本信息
专利标题 ：
用于扩散法制图的方法及组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1075825A
申请号 ：
CN92112984.X
公开（公告）日 ：
1993-09-01
申请日 ：
1992-11-06
授权号 ：
CN1042074C
授权日 ：
1999-02-10
发明人 ：
约翰·詹姆斯·法尔顿瓦尔特·雷蒙德·黑特勒马叔华
申请人 ：
Ｅ·Ｉ·内穆尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
全永留
优先权 ：
CN92112984.X
主分类号 ：
H01L21/70
IPC分类号 ：
H01L21/70 H01L27/01 H05K3/12 C08L33/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70
由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
法律状态
2011-02-02 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101035905409
IPC(主分类) : H01L 21/70
专利号 : ZL92112984X
申请日 : 19921106
授权公告日 : 19990210
终止日期 : 20091207
号牌文件序号 : 101035905409
IPC(主分类) : H01L 21/70
专利号 : ZL92112984X
申请日 : 19921106
授权公告日 : 19990210
终止日期 : 20091207
2002-06-12 ：
其他有关事项
1999-02-10 ：
授权
1995-01-25 ：
实质审查请求的生效
1993-09-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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