环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种生产在二烯嵌段中含有羟基的共轭二烯的聚合物。一种含有０．１～１５毫克当量羟基／克聚合物的共轭二烯嵌段共聚物，该聚合物包含下式的羟基$式中各基团的定义详见说明书。
基本信息
专利标题 ：
环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1077459A
申请号 ：
CN93103654.2
公开（公告）日 ：
1993-10-20
申请日 ：
1993-04-01
授权号 ：
CN1057537C
授权日 ：
2000-10-18
发明人 ：
Ｒ·Ｃ·贝宁Ｊ·Ｒ·埃里克森Ｄ·Ｊ·斯特克莱尔Ｃ·Ｊ·吉布勒Ｊ·Ｊ·弗洛里斯Ｃ·Ｊ·思塔克
申请人 ：
国际壳牌研究有限公司
申请人地址 ：
荷兰海牙
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
唐伟杰
优先权 ：
CN93103654.2
主分类号 ：
C08F8/00
IPC分类号 ：
C08F8/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F8/00
用后处理进行化学改性
法律状态
2007-05-30 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-10-18 ：
授权
1995-06-14 ：
实质审查请求的生效
1993-10-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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