环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物及其制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种生产在二烯嵌段中含有羟基的共轭二烯的聚合物。一种含有0.1～15毫克当量羟基/克聚合物的共轭二烯嵌段共聚物,该聚合物包含上式的羟基，式中各基团的定义详见说明书。
基本信息
专利标题 ：
环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1244542A
申请号 ：
CN99108492.6
公开（公告）日 ：
2000-02-16
申请日 ：
1993-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·C·贝宁J·R·埃里克森D·J·斯特克莱尔C·J·吉布勒J·J·弗洛里斯C·J·思塔克
申请人 ：
国际壳牌研究有限公司
申请人地址 ：
荷兰海牙
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
唐伟杰
优先权 ：
CN99108492.6
主分类号 ：
C08F299/00
IPC分类号 ：
C08F299/00 C09D153/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F299/00
在没有非高分子单体存在下，相互作用的各个聚合物之间仅用碳-碳不饱和键反应，所得到的高分子化合物
法律状态
2008-04-16 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2000-02-16 ：
公开
2000-01-19 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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