可流延的组合物和未加工的介电片材
专利权的终止
摘要

本发明涉及用于形成自支撑的介电片材的可流延的组合物和光敏的自支撑的未加工的介电片材,所说的组合物和介电片材的主要特征在于权利要求书的独立权利要求的内容。

基本信息
专利标题 :
可流延的组合物和未加工的介电片材
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1090399A
申请号 :
CN93119618.3
公开(公告)日 :
1994-08-03
申请日 :
1993-09-23
授权号 :
CN1083115C
授权日 :
2002-04-17
发明人 :
T·R·修斯W·J·尼比
申请人 :
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 :
美国特拉华州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
吴大建
优先权 :
CN93119618.3
主分类号 :
G03F7/032
IPC分类号 :
G03F7/032  H01B3/08  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
法律状态
2011-12-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101147915460
IPC(主分类) : G03F 7/032
专利号 : ZL931196183
申请日 : 19930923
授权公告日 : 20020417
终止日期 : 20100923
2002-04-17 :
授权
1995-06-28 :
实质审查请求的生效
1994-08-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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