沉积在金属基体的氧化物的溶解方法
专利权的终止
摘要

一种从金属基体上溶解氧化物的方法,具体是将由于放射性物质沉积而沾污的基体进行除沾污,并且对基体没有明显的腐蚀作用。此目的由实行以下的至少一个循环而达到:$(a)于80—85℃,用至少含高锰酸盐的溶液进行氧化;$(b)于80—85℃,于pH低于2,用含还原剂和硝酸的溶液进行还原。

基本信息
专利标题 :
沉积在金属基体的氧化物的溶解方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1106472A
申请号 :
CN94101670.6
公开(公告)日 :
1995-08-09
申请日 :
1994-02-05
授权号 :
CN1039037C
授权日 :
1998-07-08
发明人 :
H·施派查拉D·诺艾尔J·格雷瓜尔
申请人 :
法国国家电力企业
申请人地址 :
法国巴黎
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
齐曾度
优先权 :
CN94101670.6
主分类号 :
C23G1/00
IPC分类号 :
C23G1/00  G21F9/28  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23G
电解法除外的化学法金属材料清洗及除油
C23G1/00
用溶液或熔融盐清洗或酸洗金属材料
法律状态
2014-03-19 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101580931958
IPC(主分类) : C23G 1/00
专利号 : ZL941016706
申请日 : 19940205
授权公告日 : 19980708
期满终止日期 : 20140205
1998-07-08 :
授权
1995-08-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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