金属氧化物膜的制造方法

专利权的终止

摘要

本发明提供一种金属氧化物膜的制造方法，是不对基材表面进行催化剂化处理而在基材表面上直接形成金属氧化物膜的金属氧化物膜的制造方法，即使在基材具有构造部的情况下，也可以用简便的工序获得均匀的金属氧化物膜。本发明通过提供如下的金属氧化物膜的制造方法来解决所述问题，即，是通过使作为金属源溶解了金属盐或金属络合物的金属氧化物膜形成用溶液接触基材表面来获得金属氧化物膜的金属氧化物膜的制造方法，其特征是，所述金属氧化物膜形成用溶液含有还原剂。

基本信息

专利标题：

金属氧化物膜的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101061062A

申请号：

CN200580038483.3

公开（公告）日：

2007-10-24

申请日：

2005-11-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

小堀裕之大川晃次郎野村圭介

申请人：

大日本印刷株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李贵亮

优先权：

CN200580038483.3

主分类号：

C01B13/14

IPC分类号：

C01B13/14 C23C18/16