同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

一种同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法，其特征在于包括如下步骤：(a)确定垂直方向图像最大有效值及最小有效值；(b)进行对准扫描，得到垂直方向采样点数；(c)对准扫描结束后，根据传感器采样得到的数据进行计算，确定实测图像的最大值与最小值；(d)当实测图像最大值与最小值都在正常值范围内，则更新图像垂直方向图像最大有效值及最小有效值后返回步骤(b)，重新进行对准扫描；(e)当实测图像最大值与最小值不在正常值范围内，则直接返回步骤(b)，重新进行对准扫描。

基本信息

专利标题：

同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1790166A

申请号：

CN200510110726.1

公开（公告）日：

2006-06-21

申请日：

2005-11-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

朱正平

申请人：

上海微电子装备有限公司

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200510110726.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2017-12-19 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备（集团）股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

2009-09-02 ：

授权

2006-08-16 ：

实质审查的生效

2006-06-21 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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