光罩及其制造方法与微影的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种光罩及其制造方法与微影的方法。本发明提供一种光罩，包括一透明基板以及一吸收层，该吸收层紧邻于该透明基板。上述吸收层之中具有数个开口。此光罩还包括一波长缩短材料层，设置于该数个开口之中，其中该波长缩短材料层与该吸收层大体上形成一平坦表面；以及一薄膜，固定在该透明基板附近。
基本信息
专利标题 ：
光罩及其制造方法与微影的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1971417A
申请号 ：
CN200510113038.0
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林本坚陈政宏陈俊光高蔡胜刘如淦施仁杰
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN200510113038.0
主分类号 ：
G03F1/14
IPC分类号 ：
G03F1/14 G03F1/16
法律状态
2011-07-13 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101114490552
IPC(主分类) : G03F 1/14
专利申请号 : 2005101130380
公开日 : 20070530
号牌文件序号 : 101114490552
IPC(主分类) : G03F 1/14
专利申请号 : 2005101130380
公开日 : 20070530
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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