用于光刻的柔性光掩模及其制造方法以及微构图方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种用于光刻的柔性光掩模及其制造方法，以及利用该柔性光掩模的构图方法。该柔性光掩模由透光弹性体制成并具有图案化表面。
基本信息
专利标题 ：
用于光刻的柔性光掩模及其制造方法以及微构图方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1800973A
申请号 ：
CN200510048843.X
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2005-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李泰雨约翰·A·罗杰斯茱利亚·W·苏
申请人 ：
三星SDI株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510048843.X
主分类号 ：
G03F1/14
IPC分类号 ：
G03F1/14 G03F7/20 H05B33/00
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法律状态
2011-04-20 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101081088575
IPC(主分类) : G03F 1/14
专利申请号 : 200510048843X
公开日 : 20060712
号牌文件序号 : 101081088575
IPC(主分类) : G03F 1/14
专利申请号 : 200510048843X
公开日 : 20060712
2006-09-06 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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