坯料及其形成方法，使用该坯料的黑色矩阵及其形成方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种坯料和黑色矩阵，其具有高耐候性，并且在低反射率，遮光效果和可加工性方面也很好，并且不会造成严重的环境污染，从而能够符合由于显示工艺的显著进步，处理负荷能力提高的需求。该种坯料具有直接或间接附着在透明基板表面上而形成的遮光膜或遮光膜和防反射膜，遮光膜包含Ni，Mo和Ti作为主要金属成分，Ti含量为10－25原子％。
基本信息
专利标题 ：
坯料及其形成方法，使用该坯料的黑色矩阵及其形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1815327A
申请号 ：
CN200510121620.1
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山田文彦佐佐木贵英尾崎俊治平元豪铃木彻
申请人 ：
爱发科成膜株式会社
申请人地址 ：
日本埼玉县
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
蔡胜有
优先权 ：
CN200510121620.1
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2008-08-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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