保护膜形成用组合物及保护膜
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种滤色器保护膜形成用组合物，其含有聚有机硅氧烷与羧酸酐、热酸产生剂或光酸产生剂，且上述聚有机硅氧烷具有1600g/mol或以下的环氧当量。本发明提供一种即使在表面平坦性低的基体上也可形成平坦性高的固化膜，而且适合用于形成表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性等各种耐性优异的光器件用保护膜的组合物及保护膜。
基本信息
专利标题 ：
保护膜形成用组合物及保护膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1817966A
申请号 ：
CN200510121656.X
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2005-12-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
秋池利之梶田彻
申请人 ：
JSR株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
孙秀武
优先权 ：
CN200510121656.X
主分类号 ：
C08L83/04
IPC分类号 ：
C08L83/04 G02B5/23 G02F1/13
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L83/00
由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L83/04
聚硅氧烷
法律状态
2008-08-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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