保护膜形成膜、保护膜形成用片及加工物的制造方法

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摘要

本发明提供一种保护膜形成膜(1)，其中，所述保护膜形成膜(1)及由保护膜形成膜(1)形成的保护膜中至少一者在测定温度0℃下测定的断裂应力(MPa)与在测定温度0℃下测定的断裂应变(单位：％)之积为1MPa·％以上且250MPa·％以下。根据所述保护膜形成膜(1)，能够在对工件进行分割加工而得到加工物时对工件进行的扩片工序中对该保护膜形成膜(1)或由保护膜形成膜(1)形成的保护膜适当地进行分割。

基本信息

专利标题：

保护膜形成膜、保护膜形成用片及加工物的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110092937A

申请号：

CN201910265151.2

公开（公告）日：

2019-08-06

申请日：

2014-09-03

授权号：

CN110092937B

授权日：

2022-06-07

发明人：

佐伯尚哉稻男洋一山本大辅米山裕之

申请人：

琳得科株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

王利波

优先权：

CN201910265151.2

主分类号：

C08J7/04

IPC分类号：

C08J7/04 B32B27/36 B32B27/08 B32B27/30 H01L21/683 H01L21/78 C08L67/02