包含特定交联剂的保护膜形成用组合物及使用了该组合物的图案...
授权
摘要
本发明的课题是提供对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。作为解决手段是一种对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物，其包含：1分子中具有2个以上选自缩水甘油基、末端环氧基、环氧环戊基、环氧环己基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基、异氰酸酯基和封闭异氰酸酯基中的至少1种基团的交联剂，侧链或末端具有下述式(1)所示的基团且重均分子量为800以上的化合物，以及有机溶剂。(式中，X1表示与上述交联剂反应的取代基，R0表示直接结合或碳原子数1或2的亚烷基，X2表示碳原子数1或2的烷基、碳原子数1或2的烷氧基、或氟基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数，c表示0～4的整数，b与c满足1≤(b+c)≤5的关系式。)。
基本信息
专利标题 ：
包含特定交联剂的保护膜形成用组合物及使用了该组合物的图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109073978A
申请号 ：
CN201780026762.0
公开（公告）日 ：
2018-12-21
申请日 ：
2017-04-21
授权号 ：
CN109073978B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
大桥智也绪方裕斗桥本雄人臼井友辉境田康志岸冈高广
申请人 ：
日产化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
段承恩
优先权 ：
CN201780026762.0
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 G03F7/26 H01L21/306
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2019-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20170421
申请日 : 20170421
2018-12-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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