本发明涉及单进气双区可调喷嘴，包括主体。所述主体由紧固件及密封圈安装在介质窗体上，其内部设置由调节堵头，其下表面有垂直向下的通孔，侧壁上具有分布在圆周上、往下倾斜的、由下往上依次排列的通孔。该单进气双区可调喷嘴通过调节调节堵头在喷嘴主体内的不同位置，改变内外环喷气口的面积实现双区可调功能，从而调节双区进气流量比例，满足十二英寸晶片刻蚀技术要求，同时相对于一般需要比例阀或者质量流量控制器的双区喷嘴降低了成本。