高光提取效率LED电极及其制备方法
专利权的终止
摘要

本发明属于光电子器件领域。传统结构光提取效率低,热可靠性差,绝缘层一次生长完成,易造成PN结漏电。结构包括:P电极加厚电极(1),高反镜保护层(2),金属高反镜(3),N电极(4),N型半导体(5),多量子阱有源区MQW(6),P型半导体(7),P电极欧姆接触层(8),N电极加厚电极(9),衬底(10);由P型半导体,多量子阱有源区MQW,N型半导体构成LED台;其特征在于:LED台侧壁上有透明绝缘层(11);台上表面小于下表面面积;LED台侧壁与竖直面成锐角;金属高反镜覆盖在P电极欧姆接触层上,并延展覆盖在透明绝缘层上,但不与N电极接触;金属高反镜、透明绝缘层和LED台三者折射率大小排列为高低高。本发明解决了LED侧面出光,不能有效提取器件所发出的光问题,防止PN结氧化。

基本信息
专利标题 :
高光提取效率LED电极及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1812146A
申请号 :
CN200510132116.1
公开(公告)日 :
2006-08-02
申请日 :
2005-12-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
沈光地朱彦旭梁庭达小丽徐晨郭霞李秉臣董立闽
申请人 :
北京工业大学
申请人地址 :
100022北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 :
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 :
张慧
优先权 :
CN200510132116.1
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00  
法律状态
2017-02-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101701026497
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101321161
申请日 : 20051216
授权公告日 : 20080806
终止日期 : 20151216
2010-02-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更前 : 北京市北京经济技术开发区科创二街4号2幢1-4层南部 邮编 : 100176
变更后 : 北京市北京经济开发区地泽北街1号 邮编 : 100176
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京太时芯光科技有限公司
变更后 : 北京太时芯光科技有限公司
变更事项 : 地址
2008-12-03 :
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京工业大学
变更后权利人 : 北京太时芯光科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 北京市朝阳区平乐园100号 邮编 : 100022
变更后 : 北京市北京经济技术开发区科创二街4号2幢1-4层南部 邮编 : 100176
登记生效日 : 20081024
2008-08-06 :
授权
2006-09-27 :
实质审查的生效
2006-08-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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