用于二氧化硅或金属硅酸盐薄膜的前体
专利权的视为放弃
摘要
一种选自双(叔丁氧基)(异丙氧基)甲硅烷醇、双(异丙氧基)(叔丁氧基)甲硅烷醇、双(叔戊氧基)(异丙氧基)甲硅烷醇、双(异丙氧基)(叔戊氧基)甲硅烷醇、双(叔戊氧基)(叔丁氧基)甲硅烷醇、双(叔丁氧基)(叔戊氧基)甲硅烷醇及其混合物的组合物；其在基底上形成金属或准金属硅酸盐层的应用以及混合烷氧基甲硅烷醇的合成。
基本信息
专利标题 ：
用于二氧化硅或金属硅酸盐薄膜的前体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821251A
申请号 ：
CN200510137359.4
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2005-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
雷新建R·鲁肯斯
申请人 ：
气体产品与化学公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘健
优先权 ：
CN200510137359.4
主分类号 ：
C07F7/02
IPC分类号 ：
C07F7/02 C23C16/40 C23C16/04 C23C16/44 H01L21/31
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
法律状态
2009-10-14 ：
专利权的视为放弃
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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