漫反射结构及其制造方法以及使用该结构之显示装置

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明之一目标为获得一简易且稳定地展示一所要之反射方向性之漫反射结构。一漫反射结构之该制造方法包含：在一基础层上沉积一感光材料2；使用一半色调光罩3遮蔽该感光材料2，该半色调光罩3具有透射区域31及光屏蔽区域32中之至少一者且具有一半透射区域33；藉由经该光罩3使该感光材料暴露至光下并显影该材料来在该感光材料的一层之一表面上形成不平坦21、22，该不平坦对应于峰部分及半途部分，所述峰部分对应于所述区域31、32中之一者而半途部分对应于该半透射区域；及在该所形成之不平坦表面上沉积一光学反射材料4。为以一灰阶透射该入射光，该光罩3在该透射区域31及该光屏蔽区域32中之一者或其二者中及/或在该半透射区域33中包含一条纹排列部分，该条纹排列部分具有能够以相对高的第一透射率透射入射光之第一线性部分34及能够以相对低的第二透

基本信息

专利标题：

漫反射结构及其制造方法以及使用该结构之显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101103302A

申请号：

CN200580035254.6

公开（公告）日：

2008-01-09

申请日：

2005-12-06

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

坪田雄介

申请人：

统宝香港控股有限公司

申请人地址：

香港沙田

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张雪梅

优先权：

CN200580035254.6

主分类号：

G02F1/1335

IPC分类号：

G02F1/1335 G02F1/1362