母盘衬底和制作高密度浮雕结构的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于光学记录的母盘衬底，包括：衬底层(26)、位于衬底层(26)上方的第一记录层(12)和第二记录层(16)以及在第一记录层(12)和第二记录层(16)之间的中间层(14)，记录层(12、16)包括相变材料，由于在记录层上投射了光所引起的相变从而可以改变与该材料的化学剂有关的特性。本发明还涉及一种制作高密度浮雕结构的方法。
基本信息
专利标题 ：
母盘衬底和制作高密度浮雕结构的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101044565A
申请号 ：
CN200580035779.X
公开（公告）日 ：
2007-09-26
申请日 ：
2005-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
E·R·迈因德斯R·A·洛克
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张雪梅
优先权 ：
CN200580035779.X
主分类号 ：
G11B7/26
IPC分类号 ：
G11B7/26 G11B7/243
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B7/00
用光学方法，例如，用光辐射的热射束记录用低功率光束重现的；为此所用的记录载体
G11B7/24
按形状、结构或物理特性或所选用的材料区分的记录载体
G11B7/26
专用于记录载体制造的工艺方法或设备
法律状态
2011-01-26 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063320380
IPC(主分类) : G11B 7/26
专利申请号 : 200580035779X
公开日 : 20070926
号牌文件序号 : 101063320380
IPC(主分类) : G11B 7/26
专利申请号 : 200580035779X
公开日 : 20070926
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2007-09-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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