含硅的TARC/阻挡层
专利申请权、专利权的转移
摘要
公开了顶部抗反射涂覆材料(TARC)和阻挡层，和其在平版印刷工艺中的用途。TARC/阻挡层可以特别用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷。TARC/阻挡层包括一种聚合物，该聚合物包括至少一个含硅部分和至少一个含水碱溶性部分。合适的聚合物包括具有硅倍半氧烷(梯状或网络)结构的聚合物，如包含具有结构(I)的单体的聚合物，其中R1包括含水碱溶性部分，和x中约1－约1.95，更优选约1－约1.75。
基本信息
专利标题 ：
含硅的TARC/阻挡层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101084467A
申请号 ：
CN200580037630.5
公开（公告）日 ：
2007-12-05
申请日 ：
2005-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄武松S·D·伯恩斯P·R·瓦拉纳西
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
刘明海
优先权 ：
CN200580037630.5
主分类号 ：
G03C1/76
IPC分类号 ：
G03C1/76
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03C
照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色、或者立体照相过程；照相的辅助过程
G03C1/00
感光材料
G03C1/76
以基底或辅助层表征的感光材料
法律状态
2017-12-08 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03C 1/76
登记生效日 : 20171117
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 国际商业机器公司
变更后权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 美国纽约
登记生效日 : 20171117
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 国际商业机器公司
变更后权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 美国纽约
2017-12-08 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03C 1/76
登记生效日 : 20171117
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更后权利人 : 格芯公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 开曼群岛大开曼岛
登记生效日 : 20171117
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更后权利人 : 格芯公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 开曼群岛大开曼岛
2010-08-18 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-12-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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