使用含硅密封剂制造发光装置的方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种发光装置的制造方法。该方法包括提供发光二极管的步骤和形成与该发光二极管相接触的密封剂的步骤;其中形成密封剂的步骤包括使由含硅树脂和含金属催化剂组成的光致聚合型组合物与发光二极管相接触的过程,以及采用波长为小于或等于700nm的光化辐射来引发含硅树脂内的硅氢化反应的过程,其中所述的含硅树脂由与硅键合的氢和脂肪族不饱和官能团组成。
基本信息
专利标题 :
使用含硅密封剂制造发光装置的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101061589A
申请号 :
CN200580039554.1
公开(公告)日 :
2007-10-24
申请日 :
2005-11-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
拉里·D·博德曼D·斯科特·汤普森凯瑟琳·A·莱瑟达尔安德鲁·J·欧德科克
申请人 :
3M创新有限公司
申请人地址 :
美国明尼苏达州
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
丁业平
优先权 :
CN200580039554.1
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00 C08G77/04 H01L23/29
相关图片
法律状态
2018-11-02 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20051114
授权公告日 : 20090930
终止日期 : 20171114
申请日 : 20051114
授权公告日 : 20090930
终止日期 : 20171114
2009-09-30 :
授权
2007-12-19 :
实质审查的生效
2007-10-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN100546057C.PDF
PDF下载
2、
CN101061589A.PDF
PDF下载