形成抗反射涂层的方法
专利权的终止
摘要
一种在形成抗反射涂层中有用的倍半硅氧烷树脂，其通式为(PhSiO(3－x)/2(OH)x)mHSiO(3－x)/2(0H)x)n(MeSiO(3－x)/2(OH)x)p(RSiO(3－x)/2(OH)x)q，其中Ph是苯基，Me是甲基，R选自酯基和聚醚基，x的数值为0、1或2；m的数值为0.05－0.95，n的数值为0.05－0.95，p的数值为0.05－0.95，q的数值为0.01－0.30，和m+n+p+q≈1。
基本信息
专利标题 ：
形成抗反射涂层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101072896A
申请号 ：
CN200580041956.5
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P－F·付E·S·莫耶C·R·耶克勒
申请人 ：
陶氏康宁公司
申请人地址 ：
美国密执安
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
张钦
优先权 ：
CN200580041956.5
主分类号 ：
C23C18/02
IPC分类号 ：
C23C18/02 H01L21/027 H01L21/312 C08G77/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18/00
通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆；接触镀
C23C18/02
热分解法
法律状态
2016-11-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101687368160
IPC(主分类) : C23C 18/02
专利号 : ZL2005800419565
申请日 : 20050929
授权公告日 : 20100505
终止日期 : 20150929
号牌文件序号 : 101687368160
IPC(主分类) : C23C 18/02
专利号 : ZL2005800419565
申请日 : 20050929
授权公告日 : 20100505
终止日期 : 20150929
2010-05-05 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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