用于形成抗反射涂层的聚合物
专利权的终止
摘要
本发明公开了用于形成有机抗反射涂层的聚合物以及包含该聚合物的组合物，其中该有机抗反射涂层位于蚀刻层和光刻胶层之间，并且在光刻过程中吸收照射光。该用于形成有机抗反射涂层的聚合物具有如式1和通式2所示的重复单元，其中R为取代的或未取代的C1－C5烷基。
基本信息
专利标题 ：
用于形成抗反射涂层的聚合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1827659A
申请号 ：
CN200610058606.6
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金相廷金德倍金宰贤
申请人 ：
株式会社东进世美肯
申请人地址 ：
韩国仁川广域市
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN200610058606.6
主分类号 ：
C08F20/26
IPC分类号 ：
C08F20/26 G03F7/11
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F20/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个是以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
C08F20/02
具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物
C08F20/10
酯
C08F20/26
除羧基的氧之外还含其他氧的脂
法律状态
2014-04-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101581595619
IPC(主分类) : C08F 20/26
专利号 : ZL2006100586066
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20110601
终止日期 : 20130302
号牌文件序号 : 101581595619
IPC(主分类) : C08F 20/26
专利号 : ZL2006100586066
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20110601
终止日期 : 20130302
2011-06-01 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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